新凯来湾芯展展示两款缺陷检测设备，覆盖掩模与晶圆检测

万联库快报，10月14日，2026湾区半导体产业生态博览会在深圳会展中心（福田）开幕。新凯来工业机器在展会上展示刻蚀、扩散、薄膜沉积以及光学和电子束量检测设备，其展台设备介绍手册新增列出两款缺陷检测设备。

PMI（六盘山）图形掩模缺陷检测设备面向掩模厂和芯片制造厂，可用于掩模工艺监控、出货检、来料检及定期质量检测；mEBI（井冈山）多电子束晶圆缺陷检测设备面向芯片研发和量产环节，用于纳米级尺寸和电性缺陷检测，并集成AI缺陷检测、定位与分类功能。